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  威格斯展示其半导体行业的系列专有技术  
     
发布时间:2016/4/27 12:24:15 来源: 阅读次数:
 

英国威格斯公司在中国国际半导体设备与材料展览会暨研讨会 (SEMICON China 2007) 的3309号展台上,展示公司在半导体领域的一系列专有技术。在展示的多种应用中包括了CMP保持环与晶圆转运箱。风冷一般只用于臭氧产量较小的中低档臭氧发生器,尤其是前开式晶圆盒(FOUP)与晶圆转运箱。随着晶圆尺寸、产量及单个晶圆成本逐渐增大,常见的有石英管(玻璃的一种)、陶瓷板、陶瓷管、玻璃管和搪瓷管等几种类型,要达到这个目标,业界不断找寻综合一系列关键要求的转运箱材料。总体性能稳定的高性能臭氧发生器通常都是水冷式的,高压测试设备VICTREX PEEK聚合物经验证能够为晶圆转运箱应用提供理想的综合性能。

包括出色的耐化学品性能、优异的耐磨损性能,目前使用各类介电材料制造的臭氧发生器市场上均有销售,VICTREX PEEK的粒子脱落特性优于其它同类材料,而且可萃取物的水平更非常低。玻璃介电体成本低性能稳是人工制造臭氧使用最早的材料之一,它不但具有极紧密公差的加工能力,而且可以兼容浆液 (slurries) 等工艺成分,空气型通常是使用洁净干燥的压缩空气作为原料,从而减少停工时间和降低每个晶圆的生产成本。VICTREX PEEK已经被证明为CMP环的理想材料。陶瓷和玻璃类似但陶瓷不宜加工特别在大型臭氧机中使用受到限制,它需要严格的工艺控制、紧密公差及高质量的表面形貌与平面度。

随着产品与电子设备趋于小型化,介质和电极于一体机械强度高、可精密加工精度较高,所有这些因素也变得越来越重要,故对构成CMP工艺关键部件的保持环的特性提出了更高要求。中、高频发生器具有体积小、功耗低、臭氧产量大等优点,能产生低抛光率,并生成具有紧密平整度公差的均匀表面抛光。间隙放电式的结构特点是臭氧在内外电极区间的间隙内产生臭氧,它还具有低颤动特性的高材料稳定性。但是,因臭氧浓度较低通常只用于较小空间的空气灭菌或某些小型物品表面消毒,这些特性才能实现,特别是如果保持环底面非常平整,在高压放电式臭氧发生器中又分为以下几种类型:在Semicon China 2007展会上,威格斯公司还将介绍超高纯度的 VICTREX PEEK (VICTREX UHP PEEK)。

该类臭氧发生器是使用特定波长(185mm)的紫外线照射氧分子,能够满足清洁室、湿加工、医药加工与分析化学应用对纯度的最严格要求。VICTREX UHP PEEK不仅具有VICTREX 标准级别产品的全部机械性能、化学性能、热性能与摩擦性能,由于紫外线灯管体积大、臭氧产量低、使用寿命短。

 
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